반응형 SEMI-SHIELD TBM공법 검토 SEMI-SHIELD TBM공법 검토 구 분 비교 1안 (이수식) 비교 2안 (이농식) 비교 3안 (이토압식) 장비 공법개요 ∙굴진기 전면의 커트 후방에 격벽을 설치하고 막장과 격벽사이의 니수실에 지하수압에 대항하는 니수를 압송하고 막장의 안정을 도모해가면서 커트를 회전시켜 굴착, 추진을 수행함. ∙장비의 조작은 갱 외에서 원격으로 조작 ∙굴착기 전면의 커터후방에 격벽을 설치하고 막장과 격벽사이의 커트챔버내에 고농도의 니수를 압송 충진하고 막장의 안정을 도모해가며 커터를 회전시켜 굴착추진을 수행한다. ∙장비의 조작은 기계내부에서 조작 ∙밀폐형 이토압식 추진기를 선도체로서 각 작업구내에 설치한 쟈키의 추진력에 의하여 관을 추진한다. 회전커트헤드로 굴착한 토사를 막장과 격벽사이의 커트챔버내에 충만시켜 추진력.. 2023. 7. 8. 이전 1 다음 반응형
